挑戰台積電與ASML！美國新創Substrate押注X射線微影、技術成本僅High-NA EUV十分之一
內容摘要鉅亨網 提供122 字美國新創 Substrate 宣稱突破 X 射線微影技術瓶頸，打造成本僅 5000 萬美元的曝光系統，挑戰 ASML 高達 5 億美元的 High-NA EUV 設備。公司更計畫自建晶圓廠、直接與台積電及三星競爭晶圓代工市場，可能改寫未來半導體
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