挑戰台積電與ASML！美國新創Substrate押注X射線微影、技術成本僅High-NA EUV十分之一
鉅亨網·2026-05-30 21:00·國際
#Substrate#晶片#代工#台積電#三星#ASML#艾司摩爾#微影
內容摘要鉅亨網 提供122 字美國新創 Substrate 宣稱突破 X 射線微影技術瓶頸，打造成本僅 5000 萬美元的曝光系統，挑戰 ASML 高達 5 億美元的 High-NA EUV 設備。公司更計畫自建晶圓廠、直接與台積電及三星競爭晶圓代工市場，可能改寫未來半導體
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美國新創 Substrate 宣稱突破 X 射線微影技術瓶頸，曝光系統成本降至約 5000 萬美元，欲挑戰 ASML 的 High-NA EUV 設備並自建晶圓廠，直接與台積電及三星競爭晶圓代工市場，或將影響未來半導體產業格局。
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