因應AI晶片複雜化！台積電、ASML攜手推High NA EUV光罩從6吋放大至12吋，2031年建試產線、2033年微影系統就緒
Yahoo 股市·2026-09-08 16:53·股市
內容摘要Yahoo 股市 提供100 字為替高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）技術進入先進製程量產掃除雙光罩拼接限制，台積電（2330）與全球微影設備大廠艾司摩爾（ASML，NASDAQ：ASML）今（8）日宣布展開產業合作，將H
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台積電與艾司摩爾宣布合作，將High NA EUV光罩由6吋放大至12吋，規劃2031年建置試產線、2033年微影系統就緒。
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