中國晶片設計傳突破！荷蘭半導體專家潑冷水：艾司摩爾EUV曝光機仍是「最難跨越的門檻」

鉅亨網·2026-06-28 16:20·國際

#中國#美國#半導體#晶片#曝光機#EUV#艾司摩爾#華為

中國晶片設計傳突破！荷蘭半導體專家潑冷水：艾司摩爾EUV曝光機仍是「最難跨越的門檻」

內容摘要鉅亨網提供
124 字
華為積極布局 RISC-V 開源架構，尋求突破 ARM 與 x86 技術限制，加速中國半導體自主發展。然而專家指出，真正限制中國先進晶片製造的仍是 ASML 獨占的 EUV 曝光機。本文解析 RISC-V、ARM、x86 與 EUV 技術差異，以及
ⓘ 上述為原刊出處所提供的摘要，全文請至原網站閱讀。

AI 重點整理中性消息

中國在晶片設計領域傳出突破，聚焦自研與開源架構以突破技術限制，但專家認為阻礙仍在於高階製程設備（EUV 曝光機）受美商垄斷，尚未克服跨越門檻的關鍵因素。