《富比士》EUV霸權恐被打破？「這些技術」或2030年前重塑先進晶片製造
鉅亨網·2026-07-13 13:08·國際
#AI#人工智慧#晶片#半導體#EUV#極紫外光#艾司摩爾#製造
內容摘要鉅亨網 提供96 字AI 晶片需求持續升溫，全球半導體業正尋找 EUV 極紫外光微影以外的新方案。原子微影、X 射線微影、xLight 技術與中國半導體架構陸續崛起，最快 2030 年前可能改變先進晶片製造格局。
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AI晶片需求推動半導體業探索EUV以外的新技術，如原子微影、X射線微影等，可能於2030年前改變先進晶片製造格局。
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